Esta instalación es un implantador de iones Danfysik de 60 keV que permite la implantación de iones como helio, hidrógeno o deuterio entre otros para estudios de interés en la investigación de materiales de fusión. El personal responsable del implantador diseña y desarrolla diferentes tipos de sistemas experimentales dependiendo de los requerimientos de cada estudio. Se dispone de técnicas que permiten medidas ópticas, eléctricas y de desorción in-situ. Por ejemplo, se realizan simultáneamente medidas de conductividad eléctrica en superficie e ionoluminiscencia, permitiendo estudiar correlación entre la degradación macroscópica del material y los defectos producidos durante la implantación iónica.
El implantador se ha usado regularmente para implantar iones de H, He, D en metales y aislantes para evaluar degradación microscópica de la superficie, ionoluminiscencia y degradación eléctrica. También se usa usualmente para implantar iones de He e isótopos del H para estudios de difusión y de desorción a temperaturas controladas desde la de nitrógeno líquido hasta los 1000ºC. Portamuestras y cámaras de irradiación se diseñan y desarrollan por el personal del implantador y de los talleres del CIEMAT.
.Características del haz de iones:
- Energía: hasta 60 keV.
- Corriente: hasta 150 µA dependiendo del ion.
- Tamaño de la muestra: desde 0,03 cm2Â hasta 4×2 cm2
- Diámetro del haz desfocalizado en muestra: 1 cm